LaF3作低折射率膜料制备Ge基底高性能长波红外增透膜
High-Performance LWIR Antireflective Films Fabrication on Ge Substrate Using LaF3 as Low Refractive Index Material
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摘要: 为改善Ge基底红外长波增透膜的耐恶劣环境性,研究了LaF3晶体作为低折射率材料的膜系设计过程和制备工艺.通过优化膜系结构和分段制备LaF3层技术获得了高光学性能的多层增透膜.在8～12μm波段,峰值透过率达到98.3％,双面镀膜平均透过率从48.4％提高到96.2％.力学性能、环境试验结果显示,基于LaF3材料的长波高效增透膜在保持高的光能量透过的同时还可以经受较为恶劣的环境测试.
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