LaF3作低折射率膜料制备Ge基底高性能长波红外增透膜

程海娟, 杨伟声, 蔡毅, 于晓辉, 李汝劼, 王柯, 赵劲松, 王岭雪

程海娟, 杨伟声, 蔡毅, 于晓辉, 李汝劼, 王柯, 赵劲松, 王岭雪. LaF3作低折射率膜料制备Ge基底高性能长波红外增透膜[J]. 红外技术, 2020, 42(8): 758-762.
引用本文: 程海娟, 杨伟声, 蔡毅, 于晓辉, 李汝劼, 王柯, 赵劲松, 王岭雪. LaF3作低折射率膜料制备Ge基底高性能长波红外增透膜[J]. 红外技术, 2020, 42(8): 758-762.
CHENG Haijuan, YANG Weisheng, CAI Yi, YU Xiaohui, LI Rujie, WANG Ke, ZHAO Jinsong, WANG Lingxue. High-Performance LWIR Antireflective Films Fabrication on Ge Substrate Using LaF3 as Low Refractive Index Material[J]. Infrared Technology , 2020, 42(8): 758-762.
Citation: CHENG Haijuan, YANG Weisheng, CAI Yi, YU Xiaohui, LI Rujie, WANG Ke, ZHAO Jinsong, WANG Lingxue. High-Performance LWIR Antireflective Films Fabrication on Ge Substrate Using LaF3 as Low Refractive Index Material[J]. Infrared Technology , 2020, 42(8): 758-762.

LaF3作低折射率膜料制备Ge基底高性能长波红外增透膜

基金项目: 国家自然科学基金(61471044)
详细信息
  • 中图分类号: O439

High-Performance LWIR Antireflective Films Fabrication on Ge Substrate Using LaF3 as Low Refractive Index Material

  • 摘要: 为改善Ge基底红外长波增透膜的耐恶劣环境性,研究了LaF3晶体作为低折射率材料的膜系设计过程和制备工艺.通过优化膜系结构和分段制备LaF3层技术获得了高光学性能的多层增透膜.在8~12μm波段,峰值透过率达到98.3%,双面镀膜平均透过率从48.4%提高到96.2%.力学性能、环境试验结果显示,基于LaF3材料的长波高效增透膜在保持高的光能量透过的同时还可以经受较为恶劣的环境测试.
  • 期刊类型引用(2)

    1. 高婷,崔建国,徐萌,张升强,陈禹夫,蔚腊先,李雪菲,高海娟,侯晓玲. 稀土冶金含氟废酸诱导结晶制备轻稀土氟化物的关键技术研究. 湿法冶金. 2025(02): 158-170 . 百度学术
    2. 卢文礼,苗睿瑛,潘博,杨秉政,张小伟,陈德宏. 稀土氟化物制备方法研究进展. 稀土. 2023(03): 118-131 . 百度学术

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    2024年6月6日