碲锌镉晶体化学机械抛光液的研究

基金项目: 红外成像与器件重点实验室开放基金

详细信息

Research on Chemical-mechanical Polishing Slurry for CdZnTe Crystal

摘要: 本文以硅溶胶为磨料颗粒、次氯酸钠(NaClO)为氧化剂制备适用于CZT晶片的化学机械抛光液.采用XPS能谱分析CZT表面元素化学态,研究CZT化学机械抛光过程中抛光液的化学作用机理,使用激光干涉仪、原子力显微镜研究抛光液中NaClO含量对晶片抛光速率、晶片表面PV值及表面粗糙度Ra的影响.结果表明,硅溶胶-次氯酸钠抛光液通过与CZT晶体中Te单质或CdTe发生化学反应,生成TeO2.随后在一定压力下,抛光盘与CZT晶片发生相对运动,并在硅溶胶磨料颗粒的辅助作用下去除反应物.当NaClO含量在2％～10％时,随着NaClO含量的增加,晶片表面PV值和粗糙度Ra值先降低后升高,去除速率则随着NaClO含量的增加而增加.NaClO含量为6％时,PV值和Ra值最低,得到的晶片表面质量最好.
- 化学机械抛光 /
- CZT晶体 /
- 粗糙度 /
- 平整度

1.	罗诗悦，鄢强，宋慧瑾. CdZnTeSe晶体的研究与应用进展. 材料导报. 2024(S1): 367-371 . 百度学术
2.	王琰璋，岳晓辉，李振兴，柏伟，侯晓敏. 碲锌镉衬底的化学机械抛光液研究. 红外. 2023(01): 17-22 . 百度学术
3.	江先燕，丛树仁，宁卓，起文斌，刘燕，宋林伟，孔金丞. 碲锌镉衬底表面处理研究. 红外技术. 2023(12): 1242-1255 . 本站查看
4.	江先燕，丛树仁，宁卓，起文斌，刘燕，宋林伟，孔金丞. 碲锌镉衬底表面处理研究. 红外技术. 2023(11): 1242-1255 . 本站查看
5.	张乐振，张振宇，王冬，徐光宏，郜培丽，孟凡宁，赵子锋. 基于正交试验的碲锌镉晶片CMP参数优化及抛光机制分析. 润滑与密封. 2022(04): 92-101 . 百度学术
6.	宋晓明，张振宇，刘杰，李玉彪，赵仕程，徐光宏. 5083铝合金绿色化学机械抛光液对表面粗糙度的影响及机理分析. 表面技术. 2022(05): 345-353 . 百度学术
7.	毛晓辰，朱丽慧，虞慧娴，周昌鹤，孙士文，陈燕. 板片状Al_2O_3磨料对碲锌镉晶体机械研磨的影响. 人工晶体学报. 2018(02): 261-266 . 百度学术
8.	朱新生. 高铜碲渣氧化浸出提碲试验研究. 铜业工程. 2018(04): 45-46+120 . 百度学术