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单片晶圆兆声清洗的仿真模型研究

朱亚安, 段瑜, 宋立媛, 孙琪艳, 殷艳娥, 杨炜平, 万锐敏, 季华夏

朱亚安, 段瑜, 宋立媛, 孙琪艳, 殷艳娥, 杨炜平, 万锐敏, 季华夏. 单片晶圆兆声清洗的仿真模型研究[J]. 红外技术, 2015, 37(1): 48-53.
引用本文: 朱亚安, 段瑜, 宋立媛, 孙琪艳, 殷艳娥, 杨炜平, 万锐敏, 季华夏. 单片晶圆兆声清洗的仿真模型研究[J]. 红外技术, 2015, 37(1): 48-53.
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Study on Simulation Model of Single-wafer Megasonic Cleaning[J]. Infrared Technology , 2015, 37(1): 48-53.
Citation: Study on Simulation Model of Single-wafer Megasonic Cleaning[J]. Infrared Technology , 2015, 37(1): 48-53.
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单片晶圆兆声清洗的仿真模型研究

  • 云南北方奥雷德光电科技股份有限公司,云南昆明650223;昆明物理研究所,云南昆明650223

  • 云南北方奥雷德光电科技股份有限公司,云南昆明,650223

  • 云南北方奥雷德光电科技股份有限公司

基金项目: 云南省应用基础研究重点项目(2012FA004)
详细信息

  • 中图分类号: TH132

Study on Simulation Model of Single-wafer Megasonic Cleaning

摘要

    摘要
  • 摘要: 通过研究单片晶圆兆声清洗过程中兆声头在晶圆表面的运动轨迹和能量积累过程,构建了单晶圆清洗的兆声能量分布和颗粒去除过程的数学模型.通过Mathematica 9.0对模型进行了运算和简化,经过离散化处理后,运用MATLAB对几种硅片转速和兆声臂转速的组合在硅片上的能量分布和颗粒分布进行了模拟仿真.发现简单组合比例下清洗效果与转速比例和清洗轨迹复杂程度密切相关,而固定半径扫描可以使能量分布更均匀,减少局部能量集中对晶圆IC的破坏,并且可以缩短清洗时间.
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  • 期刊类型引用(1)

    1. 王舜. 双溶液清洗技术在单溶液气相清洗机的应用. 集成电路应用. 2020(06): 24-26 . 百度学术

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