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分子束外延锗基碲镉汞薄膜原位砷掺杂研究

覃钢, 李东升, 李艳辉, 杨春章, 周旭昌, 张阳, 谭英, 左大凡, 齐航

覃钢, 李东升, 李艳辉, 杨春章, 周旭昌, 张阳, 谭英, 左大凡, 齐航. 分子束外延锗基碲镉汞薄膜原位砷掺杂研究[J]. 红外技术, 2015, (2): 105-109.
引用本文: 覃钢, 李东升, 李艳辉, 杨春章, 周旭昌, 张阳, 谭英, 左大凡, 齐航. 分子束外延锗基碲镉汞薄膜原位砷掺杂研究[J]. 红外技术, 2015, (2): 105-109.
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QIN Gang, LI Dong-sheng, LI Yan-hui, YANG Chun-zhang, ZHOU Xu-chang, ZHANG Yang, TAN Ying, ZUO Da-fan, QI Hang. Research on In-situ As-doped HgCdTe Thin Film Growth on Ge-base by MBE[J]. Infrared Technology , 2015, (2): 105-109.
Citation: QIN Gang, LI Dong-sheng, LI Yan-hui, YANG Chun-zhang, ZHOU Xu-chang, ZHANG Yang, TAN Ying, ZUO Da-fan, QI Hang. Research on In-situ As-doped HgCdTe Thin Film Growth on Ge-base by MBE[J]. Infrared Technology , 2015, (2): 105-109.
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分子束外延锗基碲镉汞薄膜原位砷掺杂研究

  • 昆明物理研究所,云南昆明,650223

  • 中国科学院昆明物理研究所

基金项目: 核高基项目。
详细信息

  • 中图分类号: TN304

Research on In-situ As-doped HgCdTe Thin Film Growth on Ge-base by MBE

摘要

    摘要
  • 摘要: 报道了基于Ge衬底分子束外延碲镉汞原位As掺杂材料的研究结果，进行了As掺杂碲镉汞薄膜生长的温度控制研究；分析了As束流对材料晶体质量的影响，结合SIMS测试技术得到了As杂质掺杂浓度与束源炉加热温度的关系；并利用傅里叶红外光谱仪、X射线双晶衍射、EPD检测等手段对晶体质量进行了分析表征，结果显示利用 MBE 方法可以生长出晶体质量良好、缺陷密度低的碲镉汞薄膜；进一步研究了As杂质的激活退火工艺及不同退火条件对材料电学参数的影响。
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