高级检索
ENGLISH

本征和Al3+掺杂ZnO薄膜的特性研究

宋立媛, 唐利斌, 姬荣斌, 刘新近, 陈雪梅, 薛经纬, 庄继胜, 王茺, 杨宇

宋立媛, 唐利斌, 姬荣斌, 刘新近, 陈雪梅, 薛经纬, 庄继胜, 王茺, 杨宇. 本征和Al3+掺杂ZnO薄膜的特性研究[J]. 红外技术, 2012, 34(5): 256-259. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.05.002
引用本文: 宋立媛, 唐利斌, 姬荣斌, 刘新近, 陈雪梅, 薛经纬, 庄继胜, 王茺, 杨宇. 本征和Al3+掺杂ZnO薄膜的特性研究[J]. 红外技术, 2012, 34(5): 256-259. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.05.002
shu
SONG Li-yuan, TANG Li-bin, JI Rong-bin, LIU Xin-jin, CHEN Xue-mei, XUE Jing-wei, ZHUANG Ji-sheng, WANG Chong, YANG Yu. Properties of Intrinsic and Aluminum-doped ZnO Thin Films[J]. Infrared Technology , 2012, 34(5): 256-259. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.05.002
Citation: SONG Li-yuan, TANG Li-bin, JI Rong-bin, LIU Xin-jin, CHEN Xue-mei, XUE Jing-wei, ZHUANG Ji-sheng, WANG Chong, YANG Yu. Properties of Intrinsic and Aluminum-doped ZnO Thin Films[J]. Infrared Technology , 2012, 34(5): 256-259. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.05.002
shu

本征和Al3+掺杂ZnO薄膜的特性研究

  • 云南大学工程技术研究院,光电信息材料研究所,昆明650091;昆明物理研究所,云南昆明650223

  • 昆明物理研究所,云南昆明,650223

  • 云南大学工程技术研究院,光电信息材料研究所,昆明650091

  • 云南大学

  • 中国科学院昆明物理研究所

基金项目: 国家自然科学基金(61106098)%兵器支撑项目资助
详细信息

  • 中图分类号: TN215

Properties of Intrinsic and Aluminum-doped ZnO Thin Films

摘要

    摘要
  • 摘要: 采用溶胶-凝胶方法在载玻片衬底上制备了本征及不同Al3+掺杂浓度的ZnO∶Al薄膜,利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜,紫外-可见光吸收光谱及霍尔效应研究了Al3+掺杂浓度对ZnO∶Al薄膜结构和光电性能的影响.结果显示,ZnO∶Al薄膜为六角纤锌矿晶体结构,具有很高的沿c轴的( 002)择优取向,Al3+掺杂并没有改变ZnO的晶体结构,只是Al取代了Zn;掺杂前后薄膜样品均在ZnO带边吸收的位置有较强的吸收而在可见光范围吸收较小；并且当Al3+掺杂浓度为1.5％(摩尔百分比)时所获得的ZnO∶Al薄膜具有最小的电阻率,为26Ω·cm.
    • HTML全文
    • 参考文献(0)
    • 相关文章
    • 施引文献
    • 资源附件(0)
计量
  • 文章访问数:  66
  • HTML全文浏览量:  15
  • PDF下载量:  6
  • 被引次数: 0
出版历程

目录

摘要
HTML全文
    参考文献(0)
    相关文章
    施引文献
    资源附件(0)

    /

    返回文章
    返回

    版权所有 © 《红外技术》编辑部京ICP备000000000号-1

    本系统由 北京仁和汇智信息技术有限公司 开发  百度统计

    x 关闭 永久关闭

    尊敬的专家、作者、读者：

    端午节期间因系统维护，《红外技术》网站（hwjs.nvir.cn）将于2024年6月7日20:00-6月10日关闭。关闭期间，您将暂时无法访问《红外技术》网站和登录投审稿系统，给您带来不便敬请谅解！

    预计6月11日正常恢复《红外技术》网站及投审稿系统的服务。您如有任何问题，可发送邮件至编辑部邮箱（irtek@china.com）与我们联系。

    感谢您对本刊的支持！

    《红外技术》编辑部

    2024年6月6日