非晶态碲镉汞薄膜晶化过程的椭圆偏振光谱研究
Characterization of the Crystallization of Amorphous Hg0.2Cd0.8Te Using Spectroscopic Ellipsometry
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摘要: 采用椭圆偏振光谱技术研究了非晶态碲镉汞薄膜在不同退火条件下的结构性能.结果表明非晶态碲镉汞薄膜在退火过程中的成核晶化是在薄膜内部均匀发生的,对于不同晶化程度的薄膜,其光学常数谱具有明显的特征,通过对光学常数谱的分析研究可以对非晶态碲镉汞薄膜的晶化程度进行量化表征,从而控制退火条件,优化材料质量.
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