热处理对氧化铈粉体3~5μm波段红外发射率的影响

热处理对氧化铈粉体3~5μm波段红外发射率的影响

蒋勇, 徐国跃, 郭腾超, 李泉灵, 秦锐

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蒋勇, 徐国跃, 郭腾超, 李泉灵, 秦锐. 热处理对氧化铈粉体3~5μm波段红外发射率的影响[J]. 红外技术, 2011, 33(12): 699-703. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.12.005

引用本文:

蒋勇, 徐国跃, 郭腾超, 李泉灵, 秦锐. 热处理对氧化铈粉体3~5μm波段红外发射率的影响[J]. 红外技术, 2011, 33(12): 699-703. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.12.005

JIANG Yong, XU Guo-yue, GUO Teng-chao, LI Quan-ling, QIN Rui. Effects of Heat Treatment on the Infrared Emissivity of Cerium Oxide in 3-5 μtm Waveband[J]. Infrared Technology , 2011, 33(12): 699-703. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.12.005

Citation:

JIANG Yong, XU Guo-yue, GUO Teng-chao, LI Quan-ling, QIN Rui. Effects of Heat Treatment on the Infrared Emissivity of Cerium Oxide in 3-5 μtm Waveband[J]. Infrared Technology , 2011, 33(12): 699-703. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.12.005

热处理对氧化铈粉体3~5μm波段红外发射率的影响

南京航空航天大学材料科学与技术学院,江苏南京,211100
南京航空航天大学

基金项目: 国防科研计划项目%国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(xxxxx03zt2-06-ZZT2)%国家自然科学基金资助项目(90505008)%航空基金项目(2009ZA52013)%南京航空航天大学专项科研基金(1006-56XHA09002)

详细信息

中图分类号: TQ325.12%TN976
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出版历程

Effects of Heat Treatment on the Infrared Emissivity of Cerium Oxide in 3-5 μtm Waveband

摘要: 在600℃以内,氧化铈粉体在3～5 μm波段的红外发射率随着测试温度的升高而降低.通过设计关于热处理的正交实验和单因素实验,发现采用以4℃/min的升温速率升至1300℃保温4h后,氧化铈粉体在常温下的发射率最低,可降至0.37;测试温度升至600℃时,发射率则可降至0.3,可以考虑作为发动机用红外低发射率耐高温涂层的填料.通过XRD、SEM等表征手段,分析了热处理引起发射率变化的原因.
- 氧化铈 /
- 热处理 /
- 红外发射率 /
- 正交实验

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