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非晶碳化硅薄膜的结构及其光学特性研究

宋超, 孔令德

宋超, 孔令德. 非晶碳化硅薄膜的结构及其光学特性研究[J]. 红外技术, 2011, 33(9): 509-511. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.09.004
引用本文: 宋超, 孔令德. 非晶碳化硅薄膜的结构及其光学特性研究[J]. 红外技术, 2011, 33(9): 509-511. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.09.004
shu
SONG Chao, KONG Ling-de. The Structures and Optical Properties of Amorphous Silicon Carbide[J]. Infrared Technology , 2011, 33(9): 509-511. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.09.004
Citation: SONG Chao, KONG Ling-de. The Structures and Optical Properties of Amorphous Silicon Carbide[J]. Infrared Technology , 2011, 33(9): 509-511. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.09.004
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非晶碳化硅薄膜的结构及其光学特性研究

  • 韩山师范学院,物理与电子工程系,潮州广东521041

  • 昆明物理研究所,昆明云南,650223

  • 韩山师范学院

  • 中国科学院昆明物理研究所

详细信息

  • 中图分类号: O484.1

The Structures and Optical Properties of Amorphous Silicon Carbide

摘要

    摘要
  • 摘要: 采用等离子体增强化学气相沉积系统制备非晶碳化硅薄膜,通过控制反应气体中甲烷和硅烷的流量比R来调节薄膜中的碳/硅比,获得具有不同碳/硅比的薄膜结构.采用Raman、XPS以及FT-IR等技术手段对样品的结构进行表征.通过对样品吸收谱的测量,对样品的光学特性进行了研究.研究结果表明,薄膜中C-H键以及Si-C键含量的增加引起薄膜的光学带隙展宽,在R=10时薄膜的光学带隙达到2.4 eV.
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