高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析
The Analysis of High Purity Tellurium and Cadmium Using Glow Discharge Mass Spectrometry and Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
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摘要: 采用辉光放电质谱(GD-MS)对碲、镉原材料中锂、硼、钠、铝、硅、铁、铜、锌、镓、砷,银、金,铅、铀等62个杂质元素进行了测试,并与激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(LA-ICP-MS)所测的结果进行比较,对结果差异的潜在因素、个别元素含量异常偏大的原因进行了系统分析,着重论述VG9000辉光放电质谱仪的特点及痕量杂质分析优势.
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