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一种新型的正胶剥离技术及其应用

A New-style Positive Photoresist Lift-off Techniques and Its Application

    摘要
  • 摘要: 介绍了在金属微细图形化制作中常用的两种方法:刻蚀和剥离,并比较了两者的优劣.开发了一种新型的正胶剥离技术,着重解决了传统的正胶剥离技术中所存在的较为严重的"二次污染"问题,提高了其剥离精度,达到2 μm.最后介绍了新型的正胶剥离技术在实际工作中的应用.

     

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