Ranlan测量Ge/Si多层膜中Ge晶粒尺寸的理论研究

吴晓昆, 杨宇, 吴兴惠

吴晓昆, 杨宇, 吴兴惠. Ranlan测量Ge/Si多层膜中Ge晶粒尺寸的理论研究[J]. 红外技术, 2001, 23(1): 15-18. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.005
引用本文: 吴晓昆, 杨宇, 吴兴惠. Ranlan测量Ge/Si多层膜中Ge晶粒尺寸的理论研究[J]. 红外技术, 2001, 23(1): 15-18. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.005
WU xiao-kun, YANG Yu, WU Xing-hui. Theoretical Study for Determining the Ge Crystal-Size of Gex/Si1-x Multilayer by Raman Scattering Spectra[J]. Infrared Technology , 2001, 23(1): 15-18. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.005
Citation: WU xiao-kun, YANG Yu, WU Xing-hui. Theoretical Study for Determining the Ge Crystal-Size of Gex/Si1-x Multilayer by Raman Scattering Spectra[J]. Infrared Technology , 2001, 23(1): 15-18. DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.005

Ranlan测量Ge/Si多层膜中Ge晶粒尺寸的理论研究

详细信息
  • 中图分类号: O76

Theoretical Study for Determining the Ge Crystal-Size of Gex/Si1-x Multilayer by Raman Scattering Spectra

  • 摘要: 研究了用磁控溅射方法制备的Gex/Si1-x多层膜的Ge拉曼光谱,在分析了多层膜中Ge微晶的分布和采用微晶壳层结构假设的条件下,考虑了微晶表面效应的影响,用声子限域模型计算了Ce纳米晶粒的拉曼谱线,拉曼拟合谱线为三条理论谱线的叠加。计算结果表明:在考虑了微晶的表面效应后,拟合结果与实验结果符合得很好。
计量
  • 文章访问数:  105
  • HTML全文浏览量:  17
  • PDF下载量:  4
  • 被引次数: 0
出版历程

目录

    /

    返回文章
    返回
    x 关闭 永久关闭

    尊敬的专家、作者、读者:

    端午节期间因系统维护,《红外技术》网站(hwjs.nvir.cn)将于2024年6月7日20:00-6月10日关闭。关闭期间,您将暂时无法访问《红外技术》网站和登录投审稿系统,给您带来不便敬请谅解!

    预计6月11日正常恢复《红外技术》网站及投审稿系统的服务。您如有任何问题,可发送邮件至编辑部邮箱(irtek@china.com)与我们联系。

    感谢您对本刊的支持!

    《红外技术》编辑部

    2024年6月6日