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用于红外焦平面阵列非均匀性校正的辐射参考源

金明磊,  金伟其,  刘崇亮,  范永杰

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文章导航 > 红外技术  > 2012 >  34(7): 383-388
金明磊, 金伟其, 刘崇亮, 范永杰. 用于红外焦平面阵列非均匀性校正的辐射参考源[J]. 红外技术, 2012, 34(7): 383-388. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.07.002
引用本文: 金明磊, 金伟其, 刘崇亮, 范永杰. 用于红外焦平面阵列非均匀性校正的辐射参考源[J]. 红外技术, 2012, 34(7): 383-388. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.07.002
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JIN Ming-lei, JIN Wei-qi, LIU Chong-liang, FAN Yong-jie. Reference Source for Non-uniformity Correction of the Infrared Focal Plane Arrays[J]. Infrared Technology , 2012, 34(7): 383-388. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.07.002
Citation: JIN Ming-lei, JIN Wei-qi, LIU Chong-liang, FAN Yong-jie. Reference Source for Non-uniformity Correction of the Infrared Focal Plane Arrays[J]. Infrared Technology , 2012, 34(7): 383-388. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.07.002
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用于红外焦平面阵列非均匀性校正的辐射参考源

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2012.07.002

  • 北京理工大学光电学院,“光电成像技术与系统”教育部重点实验室 北京,100081

  • 北京理工大学

基金项目: 国家自然科学基金项目(60877060)%十一五总装预研项目(404050301)
详细信息

  • 中图分类号: TN219

Reference Source for Non-uniformity Correction of the Infrared Focal Plane Arrays

    摘要
  • 摘要: 概述了4种红外焦平面阵列非均匀性过程中使用到的参考源.成为产品前,通常使用面源黑体作为参考源对红外焦平面阵列进行非均匀性校正；在热成像系统应用中动态非均匀性校正中,普遍使用的辐射挡板由于没有连有控温装置,只能进行一点校正,在场景温度偏离校正温度时,校正效果会受到影响；美国第三代前视红外成像系统中使用连有热电制冷器的热电参考源,利用热电制冷器对发射表面进行控温,可实现两点校正算法；为基于边框的SBNUC校正算法设计的U型边框黑体光阑,对视场中心没有遮挡,利用半导体制冷器对U型边框黑体光阑的进行控温,能根据场景信息自适应地实现的两点校正.
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