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Ni2+掺杂浓度对TiO2薄膜的制备及性能的影响

陈雪梅,  唐利斌,  姬荣斌,  宋立媛,  庄继胜,  王茺,  杨宇

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文章导航 > 红外技术  > 2011 >  33(1): 17-20
陈雪梅, 唐利斌, 姬荣斌, 宋立媛, 庄继胜, 王茺, 杨宇. Ni2+掺杂浓度对TiO2薄膜的制备及性能的影响[J]. 红外技术, 2011, 33(1): 17-20. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.01.005
引用本文: 陈雪梅, 唐利斌, 姬荣斌, 宋立媛, 庄继胜, 王茺, 杨宇. Ni2+掺杂浓度对TiO2薄膜的制备及性能的影响[J]. 红外技术, 2011, 33(1): 17-20. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.01.005
shu
CHEN Xue-mei, TANG Li-bin, JI Rong-bin, SONG Li-yuan, ZHUANG ji-sheng, WANG Chong, YANG Yu. Study on The Fabrication And Properties of Ni-doped TiO2 Thin Films[J]. Infrared Technology , 2011, 33(1): 17-20. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.01.005
Citation: CHEN Xue-mei, TANG Li-bin, JI Rong-bin, SONG Li-yuan, ZHUANG ji-sheng, WANG Chong, YANG Yu. Study on The Fabrication And Properties of Ni-doped TiO2 Thin Films[J]. Infrared Technology , 2011, 33(1): 17-20. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.01.005
shu

Ni2+掺杂浓度对TiO2薄膜的制备及性能的影响

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2011.01.005

  • 云南大学工程技术研究院光电信息材料研究所,云南,昆明,650091;昆明物理研究所,云南,昆明,650223

  • 昆明物理研究所,云南,昆明,650223

  • 云南大学工程技术研究院光电信息材料研究所,云南,昆明,650091

  • 云南大学

  • 中国科学院昆明物理研究所

基金项目: 云南大学理工基金(2009E27Q)%教育部重点项目(210207)%兵器预研支撑项目
详细信息

  • 中图分类号: TN213

Study on The Fabrication And Properties of Ni-doped TiO2 Thin Films

    摘要
  • 摘要: 采用溶胶-凝胶法在石英(SiO2)衬底上制备了多层TiO2及Ni3+掺杂TiO2薄膜.利用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD),拉曼光谱(Raman)及紫外分光光度计(UV-Vis)对薄膜样品进行结构性能表征.实验结果表明,在400℃下退火3h得到的TiO2薄膜均为锐钛矿相,Ni2+的掺杂对退火处理TiO2薄膜结晶行为影响不大,但Ni2+的掺杂有效阻碍了TiO2由无定型向锐钛矿相的转变;同时,Ni2+掺杂引起TiO2薄膜吸收边发生明显的红移,使其进入可见光波段的范围.
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