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应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN设计

郑新波,  潘鸣,  裴云天

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文章导航 > 红外技术  > 2010 >  32(11): 649-653,658
郑新波, 潘鸣, 裴云天. 应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN设计[J]. 红外技术, 2010, 32(11): 649-653,658. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.11.008
引用本文: 郑新波, 潘鸣, 裴云天. 应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN设计[J]. 红外技术, 2010, 32(11): 649-653,658. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.11.008
shu
ZHENG Xin-bo, PAN Ming, PEI Yun-tian. Two New Designs of LISN Leakage Protection Applied in IR Imaging System Laboratory[J]. Infrared Technology , 2010, 32(11): 649-653,658. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.11.008
Citation: ZHENG Xin-bo, PAN Ming, PEI Yun-tian. Two New Designs of LISN Leakage Protection Applied in IR Imaging System Laboratory[J]. Infrared Technology , 2010, 32(11): 649-653,658. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.11.008
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应用于红外成像系统实验室的避漏电保护LISN设计

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.11.008

  • 中国科学院上海技术物理研究所,上海,200083

  • 中国科学院上海技术物理研究所

基金项目: 国家预研项目
详细信息

  • 中图分类号: TN216

Two New Designs of LISN Leakage Protection Applied in IR Imaging System Laboratory

    摘要
  • 摘要: 传导发射测试是红外成像系统必须通过的一项电磁兼容性测试.在研制阶段进行实验室内部的诊断性传导测试,将使得红外成像系统更容易满足电磁兼容标准要求,从而缩短了研发周期,提高了系统探测率.而漏电保护是红外成像系统实验室做传导测试所面临的首要问题.分析了红外成像系统实验室中传导测试使用LISN引起漏电保护的原因,并针对红外成像系统的特点提出了两种新的LISN设计方案,并在仿真中验证了设计的合理性,解决了红外成像系统实验室中做诊断性的传导测量引起的漏电保护问题.
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