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开管退火对碲锌镉单晶片沉积相影响的研究

万锐敏,  黄晖,  陈雪梅,  龚晓霞,  胡赞东,  姬荣斌

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文章导航 > 红外技术  > 2010 >  32(10): 579-582
万锐敏, 黄晖, 陈雪梅, 龚晓霞, 胡赞东, 姬荣斌. 开管退火对碲锌镉单晶片沉积相影响的研究[J]. 红外技术, 2010, 32(10): 579-582. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.10.006
引用本文: 万锐敏, 黄晖, 陈雪梅, 龚晓霞, 胡赞东, 姬荣斌. 开管退火对碲锌镉单晶片沉积相影响的研究[J]. 红外技术, 2010, 32(10): 579-582. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.10.006
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WAN rui-min, HUANG hui, CHEN xue-mei, GONG xiao-xia, HU zan-dong, JI rong-bin. Research on the Effects of the Precipitates in CdZnTe Wafer by Open-tube Annealing Method[J]. Infrared Technology , 2010, 32(10): 579-582. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.10.006
Citation: WAN rui-min, HUANG hui, CHEN xue-mei, GONG xiao-xia, HU zan-dong, JI rong-bin. Research on the Effects of the Precipitates in CdZnTe Wafer by Open-tube Annealing Method[J]. Infrared Technology , 2010, 32(10): 579-582. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.10.006
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开管退火对碲锌镉单晶片沉积相影响的研究

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.10.006

  • 昆明物理研究所,云南,昆明,650223

  • 中国科学院昆明物理研究所

基金项目: 云南省自然科学基金重点项目(2003E0012Z)%云南省科技创新人才计划资助项目(2005PY02-7)
详细信息

  • 中图分类号: O781

Research on the Effects of the Precipitates in CdZnTe Wafer by Open-tube Annealing Method

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