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国外电阻阵列非均匀性校正技术概述

李艳,  孟庆虎,  吴永刚

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文章导航 > 红外技术  > 2010 >  32(8): 453-456
李艳, 孟庆虎, 吴永刚. 国外电阻阵列非均匀性校正技术概述[J]. 红外技术, 2010, 32(8): 453-456. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.08.005
引用本文: 李艳, 孟庆虎, 吴永刚. 国外电阻阵列非均匀性校正技术概述[J]. 红外技术, 2010, 32(8): 453-456. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.08.005
shu
LI Yan, MEN Qin-hu, WU Yong-gang. Resistor Array Nonuniformity Correction Technology from Foreign Countries[J]. Infrared Technology , 2010, 32(8): 453-456. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.08.005
Citation: LI Yan, MEN Qin-hu, WU Yong-gang. Resistor Array Nonuniformity Correction Technology from Foreign Countries[J]. Infrared Technology , 2010, 32(8): 453-456. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.08.005
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国外电阻阵列非均匀性校正技术概述

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.08.005

  • 中国空空导弹研究院凯迈测控,河南,洛阳,471009

  • 中国空空导弹研究院

基金项目: 航空基金(20080112005)
详细信息

  • 中图分类号: TN216

Resistor Array Nonuniformity Correction Technology from Foreign Countries

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