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高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析

荣百炼,  胡赞东,  丛树仁,  韩福忠,  姬荣斌

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文章导航 > 红外技术  > 2010 >  32(4): 226-230
荣百炼, 胡赞东, 丛树仁, 韩福忠, 姬荣斌. 高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析[J]. 红外技术, 2010, 32(4): 226-230. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.04.010
引用本文: 荣百炼, 胡赞东, 丛树仁, 韩福忠, 姬荣斌. 高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析[J]. 红外技术, 2010, 32(4): 226-230. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.04.010
shu
RONG Bai-lian, HU Zan-dong, CONG Shu-ren, HAN Fu-zhong, JI Rong-bin. The Analysis of High Purity Tellurium and Cadmium Using Glow Discharge Mass Spectrometry and Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry[J]. Infrared Technology , 2010, 32(4): 226-230. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.04.010
Citation: RONG Bai-lian, HU Zan-dong, CONG Shu-ren, HAN Fu-zhong, JI Rong-bin. The Analysis of High Purity Tellurium and Cadmium Using Glow Discharge Mass Spectrometry and Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry[J]. Infrared Technology , 2010, 32(4): 226-230. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.04.010
shu

高纯碲和镉中痕量杂质元素的辉光放电质谱分析

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.04.010

  • 昆明物理研究所,云南,昆明,650223

  • 中国科学院昆明物理研究所

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  • 中图分类号: TN215

The Analysis of High Purity Tellurium and Cadmium Using Glow Discharge Mass Spectrometry and Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

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