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氧化钒非制冷红外焦平面探测器芯片工艺研究

袁俊,  太云见,  雷晓虹,  何雯瑾,  陈妞

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文章导航 > 红外技术  > 2009 >  31(1): 1-4
袁俊, 太云见, 雷晓虹, 何雯瑾, 陈妞. 氧化钒非制冷红外焦平面探测器芯片工艺研究[J]. 红外技术, 2009, 31(1): 1-4. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2009.01.001
引用本文: 袁俊, 太云见, 雷晓虹, 何雯瑾, 陈妞. 氧化钒非制冷红外焦平面探测器芯片工艺研究[J]. 红外技术, 2009, 31(1): 1-4. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2009.01.001
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YUAN Jun, TAI Yun-jian, LEI Xiao-hong, HE Wen-jing, CHENG Niu. Research on Fabrication of VOx UFPA Detectors[J]. Infrared Technology , 2009, 31(1): 1-4. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2009.01.001
Citation: YUAN Jun, TAI Yun-jian, LEI Xiao-hong, HE Wen-jing, CHENG Niu. Research on Fabrication of VOx UFPA Detectors[J]. Infrared Technology , 2009, 31(1): 1-4. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2009.01.001
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氧化钒非制冷红外焦平面探测器芯片工艺研究

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2009.01.001

  • 昆明物理研究所,云南,昆明,650223

  • 中国科学院昆明物理研究所

详细信息

  • 中图分类号: TN215

Research on Fabrication of VOx UFPA Detectors

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