高级检索
ENGLISH

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

非晶态锑化铟薄膜的射频磁控溅射生长及其结构和光学特性研究

孔金丞,  李竑志,  孔令德,  赵俊,  于晓辉,  王善力,  姬荣斌

downloadPDF
文章导航 > 红外技术  > 2008 >  30(6): 351-354
孔金丞, 李竑志, 孔令德, 赵俊, 于晓辉, 王善力, 姬荣斌. 非晶态锑化铟薄膜的射频磁控溅射生长及其结构和光学特性研究[J]. 红外技术, 2008, 30(6): 351-354. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2008.06.011
引用本文: 孔金丞, 李竑志, 孔令德, 赵俊, 于晓辉, 王善力, 姬荣斌. 非晶态锑化铟薄膜的射频磁控溅射生长及其结构和光学特性研究[J]. 红外技术, 2008, 30(6): 351-354. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2008.06.011
shu
KONG Jin-cheng, LI Hong-zhi, KONG Ling-de, ZHAO Jun, YU Xiao-hui, WANG Shan-li, JI Rong-bin. Structural and Optical Properties of Amorphous InSb Films Deposited by RF Magnetron Sputtering[J]. Infrared Technology , 2008, 30(6): 351-354. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2008.06.011
Citation: KONG Jin-cheng, LI Hong-zhi, KONG Ling-de, ZHAO Jun, YU Xiao-hui, WANG Shan-li, JI Rong-bin. Structural and Optical Properties of Amorphous InSb Films Deposited by RF Magnetron Sputtering[J]. Infrared Technology , 2008, 30(6): 351-354. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2008.06.011
shu

非晶态锑化铟薄膜的射频磁控溅射生长及其结构和光学特性研究

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2008.06.011

  • 昆明物理研究所,云南,昆明,650023

  • 中国科学院昆明物理研究所

详细信息

  • 中图分类号: O742%O75

Structural and Optical Properties of Amorphous InSb Films Deposited by RF Magnetron Sputtering

    摘要
  • 摘要: 在玻璃衬底上用射频磁控溅射技术进行了非晶态锑化铟(a-InSb)薄膜的低温生长.采用X射线衍射(XRD)和原子力显微(AFM)技术对所生长的薄膜进行分析研究,所生长的非晶态锑化铟薄膜表面平整,没有晶粒出现,获得了射频磁控溅射生长非晶态锑化铟薄膜的"生长窗口".采用傅立叶红外透射光谱分析技术对非晶态锑化铟薄膜进行了光学性能研究,在0.9～2.0μm范围内研究了薄膜的透射谱线,获得了薄膜的吸收系数,研究了其光学带隙和吸收边附近的3个吸收区域.
    • HTML全文
    • 参考文献(0)
    • 相关文章
    • 施引文献
  • 资源附件(0)
  • 加载中
WeChat 点击查看大图
计量
  • 文章访问数:  38
  • HTML全文浏览量:  10
  • PDF下载量:  5
  • 被引次数: 0
出版历程

目录

    /

    返回文章
    返回

    版权所有 © 《红外技术》编辑部京ICP备000000000号-1

    本系统由 北京仁和汇智信息技术有限公司 开发    百度统计