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基于双热电偶校准ECR-PEMOCVD薄膜生长温度分析研究

郎佳红,  秦福文,  顾彪

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文章导航 > 红外技术  > 2007 >  29(2): 79-82
郎佳红, 秦福文, 顾彪. 基于双热电偶校准ECR-PEMOCVD薄膜生长温度分析研究[J]. 红外技术, 2007, 29(2): 79-82. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2007.02.005
引用本文: 郎佳红, 秦福文, 顾彪. 基于双热电偶校准ECR-PEMOCVD薄膜生长温度分析研究[J]. 红外技术, 2007, 29(2): 79-82. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2007.02.005
shu
LANG Jia-hong, QIN Fu-wen, GU Biao. Study on Thin Film Growth Temperature by ECR-PEMOCVD Based on the Double Thermocouples[J]. Infrared Technology , 2007, 29(2): 79-82. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2007.02.005
Citation: LANG Jia-hong, QIN Fu-wen, GU Biao. Study on Thin Film Growth Temperature by ECR-PEMOCVD Based on the Double Thermocouples[J]. Infrared Technology , 2007, 29(2): 79-82. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2007.02.005
shu

基于双热电偶校准ECR-PEMOCVD薄膜生长温度分析研究

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2007.02.005

  • 安徽工业大学电气信息学院,安徽,马鞍山,243002

  • 大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024

  • 安徽工业大学

  • 大连理工大学

基金项目: 安徽省高校青年教师科研项目(2005jq1073)
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  • 中图分类号: TN312.8

Study on Thin Film Growth Temperature by ECR-PEMOCVD Based on the Double Thermocouples

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