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一种新型的正胶剥离技术及其应用

信思树,  普朝光,  杨明珠,  杨培志

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文章导航 > 红外技术  > 2006 >  28(2): 105-107
信思树, 普朝光, 杨明珠, 杨培志. 一种新型的正胶剥离技术及其应用[J]. 红外技术, 2006, 28(2): 105-107. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2006.02.012
引用本文: 信思树, 普朝光, 杨明珠, 杨培志. 一种新型的正胶剥离技术及其应用[J]. 红外技术, 2006, 28(2): 105-107. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2006.02.012
shu
XIN Si-shu, PU Chao-guang, YANG Ming-zhu, YANG Pei-zhi. A New-style Positive Photoresist Lift-off Techniques and Its Application[J]. Infrared Technology , 2006, 28(2): 105-107. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2006.02.012
Citation: XIN Si-shu, PU Chao-guang, YANG Ming-zhu, YANG Pei-zhi. A New-style Positive Photoresist Lift-off Techniques and Its Application[J]. Infrared Technology , 2006, 28(2): 105-107. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2006.02.012
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一种新型的正胶剥离技术及其应用

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2006.02.012

  • 昆明物理研究所,云南,昆明,650223

  • 中国科学院昆明物理研究所

详细信息

  • 中图分类号: TN219

A New-style Positive Photoresist Lift-off Techniques and Its Application

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