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光刻技术在铟柱制备工艺中的应用研究

杨春丽,  黄江平,  黎力,  杨登全,  张丽华,  李玉英

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文章导航 > 红外技术  > 2004 >  26(1): 67-70
杨春丽, 黄江平, 黎力, 杨登全, 张丽华, 李玉英. 光刻技术在铟柱制备工艺中的应用研究[J]. 红外技术, 2004, 26(1): 67-70. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2004.01.018
引用本文: 杨春丽, 黄江平, 黎力, 杨登全, 张丽华, 李玉英. 光刻技术在铟柱制备工艺中的应用研究[J]. 红外技术, 2004, 26(1): 67-70. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2004.01.018
shu
The Application of photolithography in Indium Bump Fabrication[J]. Infrared Technology , 2004, 26(1): 67-70. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2004.01.018
Citation: The Application of photolithography in Indium Bump Fabrication[J]. Infrared Technology , 2004, 26(1): 67-70. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2004.01.018
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光刻技术在铟柱制备工艺中的应用研究

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2004.01.018

  • 昆明物理研究所,云南,昆明,650223

  • 中国科学院昆明物理研究所

详细信息

  • 中图分类号: TN214

The Application of photolithography in Indium Bump Fabrication

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