低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向

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低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向

费逸伟, 唐卫红, 朱富进, 胡役芹, 张永国

文章导航 > 红外技术 > 2002 > 24(3): 5-9

费逸伟, 唐卫红, 朱富进, 胡役芹, 张永国. 低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向[J]. 红外技术, 2002, 24(3): 5-9. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

引用本文:

费逸伟, 唐卫红, 朱富进, 胡役芹, 张永国. 低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向[J]. 红外技术, 2002, 24(3): 5-9. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

The Present Research and Developing Trend Toward of Low Emissivity Camouflage Coating[J]. Infrared Technology , 2002, 24(3): 5-9. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

Citation:

The Present Research and Developing Trend Toward of Low Emissivity Camouflage Coating[J]. Infrared Technology , 2002, 24(3): 5-9. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

费逸伟, 唐卫红, 朱富进, 胡役芹, 张永国. 低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向[J]. 红外技术, 2002, 24(3): 5-9. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

引用本文:

费逸伟, 唐卫红, 朱富进, 胡役芹, 张永国. 低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向[J]. 红外技术, 2002, 24(3): 5-9. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

The Present Research and Developing Trend Toward of Low Emissivity Camouflage Coating[J]. Infrared Technology , 2002, 24(3): 5-9. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

Citation:

The Present Research and Developing Trend Toward of Low Emissivity Camouflage Coating[J]. Infrared Technology , 2002, 24(3): 5-9. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

低发射率伪装涂料的研究现状与发展方向

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.002

空军后勤学院,江苏,徐州,221000
解放军徐州空军学院

中图分类号: TN219
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出版历程

The Present Research and Developing Trend Toward of Low Emissivity Camouflage Coating

摘要: 从低发射率伪装涂料研究的必要性出发,从构成低发射率涂料的各种填料、胶结剂以及涂层结构等方面对其研究现状与局限性作了介绍.并在此基础上对低发射率伪装涂料的发展方向提出了设想.
- 伪装涂料 /
- 低发射率 /
- 研究现状 /
- 发展方向

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