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CdTe钝化介质膜的溅射沉积及其X射线光电子能谱研究

周咏东,  李言谨,  吴小山,  徐国森,  方家熊,  汤定元

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文章导航 > 红外技术  > 2001 >  23(1): 8-10，14
周咏东, 李言谨, 吴小山, 徐国森, 方家熊, 汤定元. CdTe钝化介质膜的溅射沉积及其X射线光电子能谱研究[J]. 红外技术, 2001, 23(1): 8-10，14. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.003
引用本文: 周咏东, 李言谨, 吴小山, 徐国森, 方家熊, 汤定元. CdTe钝化介质膜的溅射沉积及其X射线光电子能谱研究[J]. 红外技术, 2001, 23(1): 8-10，14. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.003
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The Sputtering Deposition and the X-ray Photoelectron Spectroscopy Study for the CdTe Thin Film[J]. Infrared Technology , 2001, 23(1): 8-10，14. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.003
Citation: The Sputtering Deposition and the X-ray Photoelectron Spectroscopy Study for the CdTe Thin Film[J]. Infrared Technology , 2001, 23(1): 8-10，14. doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.003
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CdTe钝化介质膜的溅射沉积及其X射线光电子能谱研究

doi: 10.3969/j.issn.1001-8891.2001.01.003

  • 南京大学固体微结构物理实验室,

  • 中国科学院,上海技术物理研究所,上海,200083

  • 南京大学,固体微结构物理实验室,江苏,南京,210093

  • 南京大学

  • 中国科学院上海技术物理研究所

基金项目: 国家航天高技术基金(863-2.00.4)%国家重点实验室基金%江苏省教育厅自然科学基金(98KJB430001)
详细信息

  • 中图分类号: TN213

The Sputtering Deposition and the X-ray Photoelectron Spectroscopy Study for the CdTe Thin Film

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