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CdTe钝化膜溅射功率对HgCdTe器件性能的影响研究

林占文,  韩福忠,  李雄军,  耿松,  史琪,  胡彦博,  杨超伟,  林阳

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文章导航 > 红外技术  > 2018 >  40(8): 733-738
林占文, 韩福忠, 李雄军, 耿松, 史琪, 胡彦博, 杨超伟, 林阳. CdTe钝化膜溅射功率对HgCdTe器件性能的影响研究[J]. 红外技术, 2018, 40(8): 733-738.
引用本文: 林占文, 韩福忠, 李雄军, 耿松, 史琪, 胡彦博, 杨超伟, 林阳. CdTe钝化膜溅射功率对HgCdTe器件性能的影响研究[J]. 红外技术, 2018, 40(8): 733-738.
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LIN Zhanwen, HAN Fuzhong, LI Xiongjun, GENG Song, SHI Qi, HU Yanbo, YANG Chaowei, LIN Yang. Study on the Influence of CdTe Passivation Film Sputtering Power on HgCdTe Device Performance[J]. Infrared Technology , 2018, 40(8): 733-738.
Citation: LIN Zhanwen, HAN Fuzhong, LI Xiongjun, GENG Song, SHI Qi, HU Yanbo, YANG Chaowei, LIN Yang. Study on the Influence of CdTe Passivation Film Sputtering Power on HgCdTe Device Performance[J]. Infrared Technology , 2018, 40(8): 733-738.
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CdTe钝化膜溅射功率对HgCdTe器件性能的影响研究

  • 昆明物理研究所,云南昆明,650223

  • 中国科学院昆明物理研究所

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  • 中图分类号: TN215

Study on the Influence of CdTe Passivation Film Sputtering Power on HgCdTe Device Performance

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